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安徽电子厂净化车间-多年经验「多图」

发布时间:2021-11-08 17:13:22        







传统净化工程与现代无尘车间净化工程相比有哪些不同点?

传统过滤器因为效率和压降问题,不仅自身需要频繁更换,且要消耗大量的风能。而恒效运行的自动除尘净化系统由于无需自动过滤器,机组压力适中保持在15-20Pa,不消耗风能。传统模式需18KW主机。新技术可以做到不更换任何耗材三年后检测数据等同于新机效果,开机时间持续越长洁净度越高,这是传统技术无法比拟的。






洁净室中的温湿度控制


相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35-45%。对于大部分洁净空间,为了防止外界污染***,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。


对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室,由于主要靠气流的"活塞打挤压作用排除行染,所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准,采用0.45m/s.但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的,为了节能,也都在探求降低风速的可行性。在我国,《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范)都是这样规定的,垂直平行流(层流)洁净室≥0.25m/s、水平平行流(层流)洁净室≥0.35 m/s。


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